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电感耦合反应离子刻蚀机(化合物半导体)变更公告

2020-12-18 上海
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所在地区: 上海 发布日期: 2020年12月18日
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变更公告正文

上海交通大学电子信息与电气工程学院感应耦合式反应离子刻蚀机国际招标公开招标公告(重招)项目概况

此项目进行薄膜刻蚀的技术。干法刻蚀是把硅片表面暴露于气态中产生的等离子体,等离子体通过光刻胶中开出的窗口,与硅片发生物理或化学反应(或同时有这两种反应),从而去掉暴露的表面材料。刻蚀技术的出现是由于集成电路制作工艺的需要,其发展亦是伴随集成电路的不断微细化的和高集成化而完善更新。目前已成为生产中不可缺少的关键技术。此次采购的设备主要用于刻蚀以下几种化合物半导体:(略)

一、项目基本情况

项目编号:(略)

校内编号:(略)

项目名称:(略)

预算金额:(略)

最高限价:(略)

采购需求:

序号

货物名称

数量

简要技术规格

交货期

交货地点

1

感应耦合式反应离子刻蚀机

1台

静电吸盘或机械卡盘固定硅片,机械卡盘夹持部分不超过5mm

(详见第八章)

合同签订后(略)个日历日内

关境外货物:

CIP上海交通大学

关境内货物:

上海交通大学

合同履行期限:(略)

本项目(不接受 )联合体投标。

二、申请人的资格要求:

1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;

2.落实政府采购政策需满足的资格要求:

本项目为机电产品国际招标项目,相关法规与政策均按照《机电产品国际招标投标实施办法(试行)》执行。

3.本项目的特定资格要求:

1)具有独立的法人资格,相应的经营范围; 2)投标人是专业生产本次所需设备的制造商,或由制造商指定一个代理商作为本次投标的唯一授权代理; 3)投标人提供的投标机型应是原产地的全新产品; 4)投标人必须在机电产品招标投标电子交易平台上注册,网址:(略)

三、获取招标文件

时间:(略)

地点:(略)

方式:(略)

售价:(略)

四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点

(略)年1月8日 (略)点(略)分(北京时间)(自招标文件开始发出之日起至投标人提交投标文件截止之日止,不得少于(略)日)

地点:(略)

五、公告期限

自本公告发布之日起5个工作日。

六、其他补充事宜

有意向的投标人可从(略)年(略)月(略)日起至(略)年(略)月(略)日,每天(节假日除外)上午9:(略)

有意向的投标人报名时须先登录“上海交通大学招投标与政府采购办公室(http:(略)

因疫情原因,本招标文件不现场发售,有意向购买的投标人将营业执照复印件、法人代表授权书、身份证复印件(以上材料须加盖公章)、汇款底单(须公对公)和开票信息发送至lins(略)@(略).com,在邮件中注明项目名称、联系人和电话,经招标代理机构审核通过后购买招标文件。

招标机构:(略)

开户银行(人民币):(略)

账号(人民币):(略)

摘要:(略)

七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。

1.采购人信息

名 称:(略)

地址:(略)

联系方式:(略)

2.采购代理机构信息

名 称:(略)

地 址:(略)

联系方式:(略)

3.项目联系方式

项目联系人:(略)

电 话:(略)

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